• sales@toptionchem.com
  • सोम-शुक्र सकाळी ७:०० ते संध्याकाळी ६:००

सिलिकॉन डायऑक्साइड

सिलिकॉन डायऑक्साइड

नमस्कार, आमच्या उत्पादनांचा सल्ला घेण्यासाठी या!

सिलिकॉन डायऑक्साइड

एचएस कोड: २८११२२१०.

कॅस क्रमांक : ७६३१ – ८६ – ९

EINECS क्रमांक: २३१ – ५४५ – ४.

आण्विक सूत्र:SiO2·n H2O,

स्वरूप: पांढरा दाणेदार किंवा पावडर.

सिलिकॉन डायऑक्साइड, ज्याला SiO2, सिलिका आणि क्वार्ट्ज असेही म्हणतात, हे एक संयुग आहे ज्याचा वापर अनेक उद्योगांमध्ये विविध प्रकारे केला जातो.


उत्पादन तपशील

उत्पादन टॅग्ज

कंपनी प्रोफाइल

व्यवसाय प्रकार: उत्पादक/कारखाना आणि व्यापार कंपनी
मुख्य उत्पादन: मॅग्नेशियम क्लोराईड कॅल्शियम क्लोराईड, बेरियम क्लोराईड,
सोडियम मेटाबायसल्फाइट, सोडियम बायकार्बोनेट
कर्मचाऱ्यांची संख्या: १५०
स्थापनेचे वर्ष: २००६
व्यवस्थापन प्रणाली प्रमाणपत्र: आयएसओ ९००१
स्थान: शेडोंग, चीन (मुख्य भूभाग)

शारीरिक वैशिष्ट्ये

भौतिक गुणधर्म: टॉप सिरीज सिलिका पर्जन्यमानाच्या मार्गाने तयार केली जाते, उत्पादन पॅरामीटर्स स्वयंचलितपणे नियंत्रित केले जातात, ज्याद्वारे विविध प्रकार '
सिलिका अचूकपणे तयार करता येते. मागणीनुसार देखील ते तयार करता येते. टॉप सिरीज सिलिकाची घनता ०.१९२-०.३२०, फ्यूजन पॉइंट १७५०℃, पोकळपणा आहे.
कच्च्या रबरमध्ये त्याची चांगली विखुरता आहे, जलद मिसळण्याची क्षमता आणि उच्च तीव्रतेची क्षमता आहे. हे अनेक क्षेत्रात वापरले जाऊ शकते आणि ते तंतू, रबर आणि प्लास्टिक इत्यादींसह एकत्र करणे सोपे आहे.

सिलिकॉन डायऑक्साइड दोन मुख्य स्वरूपात अस्तित्वात आहे: क्रिस्टलीय सिलिकॉन डायऑक्साइड आणि अमॉर्फस सिलिका. क्रिस्टलीय सिलिकॉन डायऑक्साइड, क्वार्ट्जप्रमाणे, एक सुव्यवस्थित अणु रचना आहे, जी त्याला उच्च कडकपणा आणि उत्कृष्ट प्रकाशीय गुणधर्म देते. ते विस्तृत तरंगलांबींसाठी पारदर्शक आहे, ज्यामुळे ते प्रकाशीय अनुप्रयोगांमध्ये उपयुक्त ठरते.

दुसरीकडे, अमोरफस सिलिकामध्ये लांब-श्रेणीच्या क्रमबद्ध रचनेचा अभाव आहे. फ्यूज्ड सिलिका, एक प्रकारचा अमोरफस सिलिकाचा, क्वार्ट्ज वितळवून बनवला जातो आणि त्याचा थर्मल विस्तार अत्यंत कमी असतो, ज्यामुळे तो उच्च-परिशुद्धता अनुप्रयोगांसाठी आदर्श बनतो. सिलिकॉन डायऑक्साइड नॅनोपार्टिकल्समध्ये त्यांच्या लहान आकारामुळे अद्वितीय गुणधर्म असतात, जसे की पृष्ठभाग-ते-खंड गुणोत्तर मोठे, जे रासायनिक प्रक्रियांमध्ये प्रतिक्रियाशीलता वाढवू शकते.

सिलिका पावडर आणि सिलिकॉन डायऑक्साइड पावडर विविध कण आकार आणि शुद्धतेमध्ये येतात. त्यांचे भौतिक स्वरूप बारीक पावडरपासून ते दाणेदार पदार्थांपर्यंत असू शकते, जे वेगवेगळ्या अनुप्रयोग आवश्यकतांनुसार तयार केले जाऊ शकते.

औद्योगिक बेरियम क्लोराइडची तयारी

बेरियम सल्फेट बेराइट, कोळसा आणि कॅल्शियम क्लोराइडचे उच्च घटक असलेले पदार्थ म्हणून प्रामुख्याने बॅराइट वापरले जाते आणि बेरियम क्लोराइड मिळविण्यासाठी कॅल्साइन केले जाते, प्रतिक्रिया खालीलप्रमाणे आहे:
BaSO4 + 4C + CaCl2 → BaCl2 + CaS + 4CO ↑.
निर्जल बेरियम क्लोराइड उत्पादन पद्धत: निर्जल बेरियम क्लोराइड डायहायड्रेट निर्जलीकरणाद्वारे 150℃ पेक्षा जास्त तापमानाला गरम केले जाते जेणेकरून निर्जल बेरियम क्लोराइड उत्पादने मिळतात.
BaCl2 • 2H2O [△] → BaCl2 + 2H2O
बेरियम क्लोराइड हे बेरियम हायड्रॉक्साईड किंवा बेरियम कार्बोनेटपासून देखील तयार केले जाऊ शकते, नंतरचे खनिज नैसर्गिकरित्या "विदराइट" म्हणून आढळते. हे मूलभूत क्षार हायड्रेटेड बेरियम क्लोराइड देण्यासाठी प्रतिक्रिया देतात. औद्योगिक स्तरावर, ते दोन-चरण प्रक्रियेद्वारे तयार केले जाते.

तपशील

 औद्योगिक वापरासाठी सिलिकाचे तपशील

वापर

रबरसाठी पारंपारिक सिलिका

मॅटिंगसाठी सिलिका

सिलिकॉन रबरसाठी सिलिका

आयटम/इंडेक्स/

मॉडेल

चाचणी पद्धत

टॉप

९२५

टॉप

९५५-१

टॉप

९५५-२

टॉप

९७५

टॉप

९७५ एमपी

टॉप

९७५ जीआर

टॉप

९५५-१

टॉप

९६५अ

टॉप

९६५बी

टॉप

९५५जीएक्सजे

टॉप

९५८जीएक्सजे

देखावा

दृश्यमान

पावडर

सूक्ष्म-मोती

ग्रॅन्युल

पावडर

पावडर

पावडर

विशिष्ट पृष्ठभाग क्षेत्र (BET)

एम२/ग्रॅम

जीबी/टी

१०७२२

१२०-१५०

१५०-१८०

१४०-१७०

१६०-१९०

१६०-१९०

१६०-१९०

१७०-२००

२७०-३५०

२२०-३००

१५०-१९०

१९५-२३०

सीटीएबी

एम२/ग्रॅम

जीबी/टी

२३६५६

११०-१४०

१३५-१६५

१३०-१६०

१४५-१७५

१४५-१७५

१४५-१७५

१५५-१८५

२५०-३३०

२००-२८०

१३५-१७५

तेल शोषण (DBP)

सेमी३/ग्रॅम

एचजी/टी

३०७२

२.२-२.५

२.०-२.५

१.८-२.४

२.५-३.०

२.८-३.५

२.२-२.५

२.०-२.६

SiO2 सामग्री (कोरडा आधार)

%

एचजी/टी

३०६२

≥९०

≥९२

≥९५

≥९९

ओलावा कमी होणे(१०५℃ २ तास)

%

एचजी/टी

३०६५

५.०-७.०

४.०-६.०

४.०-६.०

५.०-७.०

प्रज्वलन कमी होणे

(१००० ℃ वर)

%

एचजी/टी

३०६६

≤७.०

≤६.०

≤६.०

≤७.०

PH मूल्य (१०% एक्यु)

एचजी/टी

३०६७

५.५-७.०

६.०-७.५

६.०-७.५

६.०-७.०

विरघळणारे क्षार

%

एचजी/टी

३७४८

≤२५

≤१.५

≤१.०

≤०.१

फे सामग्री

मिग्रॅ/किलो

एचजी/टी

३०७०

≤५००

≤३००

≤२००

≤१५०

(४५um) वर चाळणीचे अवशेष

%

एचजी/टी

३०६४

≤०.५

≤०.५

≤०.५

१०-१४ मिनिटे

मॉड्यूलस ३००%

एमपीए

एचजीटी

≥ ५.५

मॉड्यूलस ५००%

एमपीए

एचजी/टी

२४०४

≥ १३.०

तन्यता शक्ती

एमपीए

एचजी/टी

२४०४

≥१९.०

ब्रेकवर वाढण्याचा दर

%

एचजी/टी

२४०४

≥५५०

उत्पादन मानक

एचजी/टी३०६१-२००९

शेरे

*:३००=५० जाळी ३००=५० जाळी **: ७५=२०० जाळी ७५=२०० जाळी

टायरसाठी एचडी सिलिका चे स्पेसिफिकेशन

 

वापर

 

उच्च कार्यक्षमता टायर

आयटम/इंडेक्स/

मॉडेल

चाचणी

पद्धत

टॉपएचडी

११५ मेगापिक्सेल

टॉपएचडी

२०० मेगापिक्सेल

टॉपएचडी

१६५ मेगापिक्सेल

टॉपएचडी

११५ जीआर

टॉपएचडी

२०० ग्रॅम

टॉपएचडी

१६५ जीआर

टॉपएचडी

७००० ग्रॅम

टॉपएचडी

९००० ग्रॅम

टॉपएचडी

५००० ग्रॅम

देखावा

दृश्यमान

सूक्ष्म-मोती

ग्रॅन्युल

ग्रॅन्युल

विशिष्ट पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ

(N2)-ट्रिस्टार, एकल-बिंदू

एम२/ग्रॅम

जीबी/टी

१०७२२

१००-१३०

२००-२३०

१५०-१८०

१००-१३०

२००-२३०

१५०-१८०

१६५-१८५

२००-२३०

१००-१३

सीटीएबी

मे/ग्रॅम

जीबी/टी

२३६५६

९५-१२५

१८५-२१५

१४५-१७५

९५-१२५

१८५-२१५

१४५-१७५

१५०-१७०

१७५-२०५

९५-१२

ओलावा कमी होणे

(१०५℃ वर, २ तास)

%

एचजी/टी

३०६५

५.०-७.०

५.०-७.०

५.०-७.०

प्रज्वलन कमी होणे

(१००० डिग्री सेल्सियस तापमानावर)

%

एचजी/टी

३०६६

≤७.०

≤७.०

≤७.०

Pएच मूल्य (५% एक्यु)

एचजी/टी

३०६७

६.०-७.०

६.०-७.०

६.०-७.०

विद्युत चालकता

(४% एकर)

μS/सेमी

आयएसओ ७८७-१४

≤१०००

≤१०००

≤१०००

चाळणीचे अवशेष,

>३०० मायक्रॉन*

%

आयएसओ

५७९४-१एफ

≤८०

चाळणीचे अवशेष, <७५ μm*

%

आयएसओ

५७९४-१एफ

≤१०

उत्पादन मानक

जीबी/टी३२६७८-२०१६

शेरे

*३००=५० जाळी ३००=५० जाळी **: ७५=२०० जाळी ७५=२०० जाळी

 

 फीड अॅडिटीव्हसाठी सिलिकाचे स्पेसिफिकेशन

उत्पादन मालिका

उच्च कार्यक्षमता टायर

आयटम/इंडेक्स/

मॉडेल

चाचणी

पद्धत

टॉप्सिल

एम१०

टॉप्सिल

एम९०

टॉप्सिल

पी२४५

टॉप्सिल

पी३००

टॉप्सिल

जी२१०

टॉप्सिल

जी२३०

टॉप्सिल

जी२६०

देखावा

दृश्यमान

पावडर

सूक्ष्म-मोती

तेल शोषण (DBP)

सेमी३/ग्रॅम

एचजी/टी

३०७२

२.०-३.०

२.०-३.०

२.०-३.०

२.८-३.५

२.०-३.०

२.०-३.०

२.५-३.५

कण आकार (D50)

मायक्रॉन

जीबी/टी

१९०७७.१

10

१५०

१००

30

२५०

२५०

२००

SiO2 सामग्री (कोरडा आधार)

%

GB

२५५७६

≥ ९६

≥ ९६

ओलावा कमी होणे

%

GB

२५५७६

≤५.०

≤५.०

प्रज्वलन कमी होणे

%

GB

२५५७६

≤८.०

≤८.०

विरघळणारे क्षार

%

GB

२५५७६

≤४.०

≤४.०

सामग्री म्हणून

मिग्रॅ/किलो

GB

२५५७६

≤३.०

≤३.०

प्रकाशन सामग्री

मिग्रॅ/किलो

GB

२५५७६

≤५.०

≤५.०

सीडी सामग्री

मिग्रॅ/किलो

जीबी/टी

१३०८२

≤०.५

≤०.५

जड धातू (Pb स्वरूपात)

मिग्रॅ/किलो

GB

२५५७६

≤३०

≤३०

उत्पादन मानक

प्रश्न/०७८१एलकेएस ००१-२०१६

शेरे

*३००=५० जाळी ३००=५० जाळी ७५=२०० जाळी ७५=२०० जाळी

 

चे तपशीलoविशेष उद्देश सिलिका

 

वापर

 

Oविशेष उद्देशs

आयटम/इंडेक्स/

मॉडेल

चाचणी पद्धत

टॉप२५

   

देखावा

दृश्यमान

पावडर

पावडर

पावडर

विशिष्ट पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ

(N2)-ट्रिस्टार, एकल-बिंदू

एम२/ग्रॅम

जीबी/टी १०७२२

१३०-१७०

३००-५००

२५०-३००

सीटीएबी

एम२/ग्रॅम

जीबी/टी २३६५६

१२०-१६०

तेल शोषण (DBP)

सेमी३/ग्रॅम

एचजी/टी ३०७२

२.०-२.५

१.५-१.८

२.८-३.५

ओलावा कमी होणे

(१०५℃ वर, २ तास)

%

एचजी/टी ३०६५

५.०-७.०

≤ ५.०

< ५.०

इग्निशन लॉस

(१००० डिग्री सेल्सियस तापमानावर)

%

एचजी/टी ३०६६

≤ ७.०

४.५-५.०

≤ ७.०

PH मूल्य (५% एक्यु)

एचजी/टी ३०६७

९.५-१०.५

६.५-७.०

ग्राहकांच्या मागणीनुसार

विरघळणारे क्षार

%

एचजी/टी ३७४८

≤ २.५

≤ ०.१५

≤ ०.०१

चाळणीचे अवशेष,

>३०० मायक्रॉन*

%

आयएसओ ५७९४-१एफ

ग्राहकांच्या मागणीनुसार

चाळणीचे अवशेष,

<75 मायक्रॉन**

आयएसओ ५७९४-१एफ

उत्पादन मानक

ISO03262-18 साठी चौकशी सबमिट करा, आम्ही तुमच्याशी २४ तासांत संपर्क करू.

शेरा:

*:३००=५० जाळी ३००=५० जाळी ७५=२०० जाळी ७५=२०० जाळी

 

* अल्कलाइन व्हाईट कार्बन ब्लॅकशी संबंधित TOP25 प्रकारचा सिलिका, रबर ट्यूब, टेप, रबर सील आणि इतर रबर उत्पादनांसारख्या ब्यूटाइल रबर उत्पादनांच्या क्षेत्रात रीइन्फोर्सिंग एजंट म्हणून वापरला जाऊ शकतो. ते रबरचे भौतिक गुणधर्म जसे की ताकद, कडकपणा, फाडण्याची ताकद, लवचिकता आणि पोशाख प्रतिरोध वाढवू शकते, ज्यामुळे रबर उत्पादने अधिक टिकाऊ बनतात आणि त्यांची कार्यक्षमता आणि विश्वासार्हता सुधारते.

उत्पादन पद्धती

सिलिकॉन डायऑक्साइड तयार करण्याचे दोन मुख्य मार्ग आहेत: नैसर्गिक निष्कर्षण आणि कृत्रिम पद्धती.
नैसर्गिक निष्कर्षण
नैसर्गिक क्वार्ट्ज जमिनीतून काढले जाते. काढल्यानंतर, ते उच्च-शुद्धता असलेले सिलिकॉन डायऑक्साइड मिळविण्यासाठी क्रशिंग, ग्राइंडिंग आणि शुद्धीकरण यासारख्या प्रक्रियांच्या मालिकेतून जाते. या प्रक्रियेतून प्रामुख्याने सिलिकॉन डायऑक्साइडचे स्फटिकासारखे स्वरूप तयार होते.
कृत्रिम पद्धती
सिंथेटिक सिलिकॉन डायऑक्साइड रासायनिक अभिक्रियांद्वारे तयार केले जाते. एक सामान्य पद्धत म्हणजे पर्जन्य प्रक्रिया, जिथे सोडियम सिलिकेट आम्लाशी प्रतिक्रिया करून सिलिका जेल तयार करते, जे नंतर वाळवले जाते आणि सिलिका पावडर तयार करण्यासाठी दळले जाते. दुसरी पद्धत म्हणजे फ्युमेड सिलिका प्रक्रिया, ज्यामध्ये ऑक्सिजन-हायड्रोजन ज्वालामध्ये सिलिकॉन टेट्राक्लोराइडचे उच्च-तापमानाचे जलविच्छेदन करून अत्यंत बारीक आणि उच्च-शुद्धता अनाकार सिलिका तयार केली जाते.

उत्पादन प्रक्रिया
वाळू सोडा राख
(ना२सी०३)
H2SO4 सौम्य करणे
मिसळणे │ │
चेंबर पर्जन्यमान
│ द्रव
सिलिकेट
फर्नेस स्लरी
१४०० ℃
│ गाळण्याची प्रक्रिया धुणे
पाण्याचा ग्लास SIO2+H2O
(कलेट) केक
│ │
विरघळवणारा स्प्रे
│ पावडरमध्ये SIO2 वाळवणे
एच२ओ
कॉम्पॅक्टिंग

साठवण

अर्ज

टायर आणि रबर उद्योगात
टायर्समध्ये सिलिकॉन डायऑक्साइड आणि रबरमध्ये सिलिकॉन डायऑक्साइड महत्त्वाची भूमिका बजावतात. टायरची कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी रबर कंपाऊंडमध्ये सिलिका फिलर जोडले जाते. ते ट्रॅक्शन वाढवते, रोलिंग प्रतिरोध कमी करते आणि इंधन कार्यक्षमता सुधारते. यामुळे टायर्स अधिक सुरक्षित आणि पर्यावरणास अनुकूल बनतात.
इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगात
इलेक्ट्रॉनिक्समधील सिलिकॉन डायऑक्साइड हे सेमीकंडक्टर उपकरणांमध्ये इन्सुलेट मटेरियल म्हणून वापरले जाते. त्याची उच्च डायलेक्ट्रिक शक्ती आणि थर्मल स्थिरता यामुळे ते एकात्मिक सर्किटमध्ये विविध घटक वेगळे करण्यासाठी एक आदर्श पर्याय बनते. ते ओलावा आणि धूळ यासारख्या पर्यावरणीय घटकांपासून इलेक्ट्रॉनिक घटकांचे संरक्षण करण्यास देखील मदत करते.
अन्न उद्योगात
अन्नातील सिलिका हे अँटी-केकिंग एजंट म्हणून वापरले जाते. ते अन्नपदार्थांना एकत्र येण्यापासून रोखते, ज्यामुळे मुक्तपणे वाहणारी सुसंगतता सुनिश्चित होते. हे सामान्यतः मसाले, मैदा आणि कॉफी क्रीमर सारख्या पावडर अन्नपदार्थांमध्ये वापरले जाते.
रंग उद्योगात
पेंट्समधील सिलिका पेंट कोटिंग्जची टिकाऊपणा आणि स्क्रॅच प्रतिरोधकता सुधारण्यासाठी वापरली जाते. ते पेंटची चमक आणि देखावा देखील वाढवू शकते, ज्यामुळे ते ग्राहकांना अधिक आकर्षक बनते.
औषध उद्योगात
औषधनिर्माण क्षेत्रातील सिलिकॉन डायऑक्साइड हे टॅब्लेट उत्पादनात ग्लिडंट म्हणून वापरले जाते. ते उत्पादन प्रक्रियेदरम्यान टॅब्लेटचे वजन आणि गुणवत्ता सुसंगत राहून सुरळीतपणे वाहू देते.

पॅकेजिंग

सामान्य पॅकेजिंग तपशील: २५ किलो, ५० किलो; ५०० किलो; १००० किलो, १२५० किलो जंबो बॅग;
पॅकेजिंग आकार: जंबो बॅग आकार: ९५ * ९५ * १२५-११० * ११० * १३०;
२५ किलो बॅग आकार: ५० * ८०-५५ * ८५
लहान पिशवी ही दुहेरी-स्तरीय पिशवी असते आणि बाहेरील थरात एक कोटिंग फिल्म असते, जी ओलावा शोषण प्रभावीपणे रोखू शकते. जंबो बॅगमध्ये यूव्ही प्रोटेक्शन अॅडिटीव्ह जोडले जाते, जे लांब पल्ल्याच्या वाहतुकीसाठी तसेच विविध हवामान परिस्थितीत योग्य आहे.

मुख्य निर्यात बाजारपेठा

आशिया आफ्रिका ऑस्ट्रेलिया
युरोप मध्य पूर्व
उत्तर अमेरिका मध्य/दक्षिण अमेरिका

पेमेंट आणि शिपमेंट

पेमेंट टर्म: टीटी, एलसी किंवा वाटाघाटीद्वारे
लोडिंग पोर्ट: क्विंगदाओ पोर्ट, चीन
ऑर्डरची पुष्टी केल्यानंतर लीड टाइम: १०-३० दिवसांनी

प्राथमिक स्पर्धात्मक फायदे

लहान ओडर स्वीकृत नमुना उपलब्ध
वितरकांनी दिलेली प्रतिष्ठा
किंमत गुणवत्ता त्वरित शिपमेंट
आंतरराष्ट्रीय मान्यता हमी / हमी
मूळ देश, CO/फॉर्म A/फॉर्म E/फॉर्म F...

सिलिकॉन डायऑक्साइडच्या उत्पादनात १५ वर्षांपेक्षा जास्त व्यावसायिक अनुभव असणे;
तुमच्या गरजेनुसार पॅकिंग कस्टमाइज करू शकतो; जंबो बॅगचा सुरक्षा घटक ५:१ आहे;
लहान चाचणी ऑर्डर स्वीकार्य आहे, विनामूल्य नमुना उपलब्ध आहे;
वाजवी बाजार विश्लेषण आणि उत्पादन उपाय प्रदान करा;
कोणत्याही टप्प्यावर ग्राहकांना सर्वात स्पर्धात्मक किंमत प्रदान करणे;
स्थानिक संसाधनांच्या फायद्यांमुळे आणि कमी वाहतूक खर्चामुळे कमी उत्पादन खर्च
गोदींच्या जवळ असल्याने, स्पर्धात्मक किंमत सुनिश्चित करा.


  • मागील:
  • पुढे:

  • तुमचा संदेश येथे लिहा आणि आम्हाला पाठवा.